美国拟斥资 8.25 亿美元支持纽约州 EUV 光刻旗舰研发站点建设

01月28日美国半导体EUV0评

TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

01月28日ASMLEUV光刻机TechInsights0评

光刻胶巨头 JSR 韩国 EUV 用 MOR 光刻胶生产基地开建，预计 2026 年投产

01月28日JSR光刻胶日本韩国EUV0评

英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心

01月28日英特尔EUV光刻机0评